Laboratori
L’Unità UTTP-FOS ha in dotazione i seguenti laboratori ed apparecchiature
Laboratorio ottico per la caratterizzazione dei film sottili mediante:
- Spettrofotometro UV-VIS-NIR mod. Lambda 9 della Perkin Elmer per misure di riflettanza e trasmittanza globale, speculare e diffusa nell’intervallo 0,2–2,5 μm.
- Spettrofotometro UV-VIS-NIR mod. Lambda 900 della Perkin Elmer per misure di riflettanza e trasmittanza globale, speculare e diffusa nell’intervallo 0,2–2,5 μm.
- Spettrofotometro UV-VIS-NIR mod. Lambda 950 della Perkin Elmer per misure di riflettanza e trasmittanza speculare ad angolo variabile nell’intervallo 0,2–2,5 μm.
- Ellissometro a modulazione di fase Jobin Yvon mod. UVISEL per misure dei parametri ottici (n e k) nell’intervallo 0,2–1,7 μm.
- Profilometro Tencor Alpha-Step 500 per la misura dello spessore e della rugosità di film sottili.
L’utilizzo di queste apparecchiature consente anche di valutare, attraverso un programma di calcolo, l’assorbanza solare.
- Resistivimetro 4 punte.
Apparecchiatura per misure di emissività
basata su spettrofotometro FTIR della Bruker accoppiato ad una sfera integratrice e con ulteriore implementazione originale (brevetto ENEA) per la misura dello spettro di riflettenza globale nell’intervallo 1,5-20 μm. Per un rivestimento solare selettivo, la misura dell’emissività è una significativa valutazione dell’entità della dispersione termica per re-irraggiamento di un ricevitore solare che opera in temperatura sotto vuoto.
Emissometro
per valutazione della emissività in temperatura di campioni in camera evacuata.
Laboratorio di deposizione per Sputtering e per Evaporazione:
- Impianto di sputtering MRC (Material Research Corporation) mod. 643 a catodi magnetron planari per la deposizione di film sottili di ossidi, metalli e materiali compositi su substrati piani di dimensioni fino a 30cm x 30cm con tecniche magnetron DC, RF e DC bipolare pulsato; l’impianto può operare nelle modalità co-sputtering “DC/RF” e “DC/DC bipolare reattivo”, utili per fabbricare materiali compositi del tipo CERMET.
- Forno a muffola KS-80-S della LINN per cicli ad alta temperatura (Tmax = 1000 °C, velocità massima di riscaldamento pari a 5 °C/min) in vuoto (5•10-5 mbar) al fine di valutare sia la stabilità termo-meccanica sia quella chimico-fisica dei rivestimenti solari selettivi.
- Evaporatore con E-Beam.
Hall tecnologica Edificio 1:
- Impianto di sputtering HORSA II (HORizontal Sputtering Apparatus) a catodi magnetron planari per la fabbricazione di rivestimenti solari selettivi su tubi di acciaio di lunghezza pari a 60 cm e su lastre di dimensioni massime 30cm x 100cm mediante processi ad alta velocità di deposizione con tecniche magnetron DC, DC impulsivo, DC bipolare pulsato, MF; l’impianto risulta particolarmente adatto alla sperimentazione di processi di co-sputtering in regime reattivo.
- Forno in aria per test di stabilità termo-meccanica e chimico-strutturale dei materiali in forma di film sottili.